第221章 ASML公司的阳谋
夏芯国际，光刻机研究院！
研究碳基芯片，叶非的主张是先研究光刻机，光刻机是制造芯片的重中之重。
没有光刻机，肯定无法制造出芯片。
光刻机研究院有三千多名研究员，在知道由叶非带领他们做研究后，他们非常的兴奋，动力非常的足。
好似明天便能研发出能制造出高质量芯片的光刻机一样。
谁不知道，叶非想研究什么，至今还未失败过。
所以，对于光刻机研究，他们也对叶非充满信心。
光刻机的研究，首先要把理论弄出来，之后才进行应用研究。
当然，由于夏国研究光刻机多年，已经有很大进展。
所以，叶非团队将现有技术收集起来，在现有技术上进行研究。
光刻机的研究称为光刻技术。
它的核心技术分别是，光刻胶、接触式和非接触式光刻技术、曝光系统、光刻机的调节系统和随机误差控制。
会议室！
叶非坐在首座，下面坐着十位研究员，他们都是各小组的组长和副组长。
叶非道：“现在外国不会将光刻胶销售给我们，那么我们只有制造出自己的光刻胶。”
光刻胶又被称为光致抗蚀剂，是光刻技术中最重要的材料。
它是由感光树脂、增感剂和溶剂等三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶的特性对光刻机的性能影响很大，所以选择合适的光刻胶非常重要。
叶非道：“而且，我们研究的是碳基芯片，那么我们便要制造出适合碳基芯片的光刻机。”
“所以，光刻胶我们也要研制出适合碳基芯片的光刻胶。”
“光刻胶研究小组，我要你们跑遍全世界，也要给我研制出适合碳基芯片的光刻胶，有信心吗？”
两位研究员站起身，大声道：“有！”
光刻胶的研究看似只是一种胶，但里面用到的原理非常的复杂。
需要物理学、化学、材料学、机械工程学和电子工程学等知识，研制出光刻胶。
研究芯片是一个非常大的工程，它的难度比原子弹还大，需要集结许多人的力量，才有可能研制出来。
光是光刻胶的研究，便要耗费大量人力、物力、财力。
要跑遍全世界去寻找大量的材料、理论和技术。
要从全世界去挖人才，才有可能研制出光刻胶。
叶非点了点头道：“坐吧！”
“接触式和非接触式光刻技术，需要用到光刻胶。”
“所以，接触式小组，你们要联合和光刻胶小组合作。”
接触式光刻技术是指光刻胶与掩膜接触后受光刻光照射的技术。
非接触式光刻技术则是光刻胶与掩膜之间空气或真空隔开后进行光刻。
“是，院长！”接触式小组两位研究员站起身道。
叶非点了点头道：“坐吧！”
叶非道：“我了解到，前段时间炬光科技研发出一种技术，非常适合曝光系统。”
“光场匀化器，爆光系统小组，你们可以和炬光科技的人联系一下，看是否可以合作研究。”
“是，院长！”曝光小组的两位组长道。
“光刻胶、接触式和非接触式光刻技术、曝光系统，这三个研究都是围绕光刻胶研究的。”
“光刻机最难的便是误差，我国这么多年研究光刻机，在理论和技术上早已不是难点。”
“我听说曾经国内有一名大学生，在大学宿舍内，造出了一台光刻机。”
“虽然这台光刻机在制造精度上，没有达到高制程工艺的水平。”
“但是，从这可以看出，我国制造光刻机并不是天方夜谭。”
“但我国之所以无法造出光刻机，难就难在误差这上面。”
众人听到这话，心中点头。
确实如此，整个半导体产业链设备，技术的提升，其实就是在不断缩小制造的误差。
好的光刻机制造出的芯片和差的光刻机制造出的芯片。
外观上来看，差异并不大。
但细致入微的观察，它们的晶体管排列还是有一些差异的。
正是这一些差异，使得芯片的质量差距很大。
毕竟，纳米级芯片，指甲盖大小的芯片上，却拥有上百亿数量的晶体管。
如何让这些晶体管按照芯片设计图纸上的设计，完成的呈现出来。
这就需要对制造过程中的高精度把控。
叶非道：“所以，光刻机的调节系统和随机误差控制，是光刻机最难的部分，也是最核心部分。”
“这两个研究，我会加入进去一起研究。”
调节系统小组和随机误差控制小组的两个小组组长，听到这话，心中有一些安心。
有叶非加入进来，相信他们的研究可以轻松许多。
“散会吧，各自回去准备，开始研究。”
说完，叶非走出会议室。
“叶院长！”叶非正要走进自己的办公室，曲广复从他的身后赶来。
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